清潔度顆粒分析系統(tǒng)是用于檢測(cè)液體或氣體中微小顆粒污染物的數(shù)量、大小分布及成分的專(zhuān)業(yè)設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、精密機(jī)械加工、航空航天、醫(yī)藥生產(chǎn)等領(lǐng)域。
一、硬件架構(gòu)
1.采樣單元
等動(dòng)力探頭設(shè)計(jì)確保各截面粒子均勻收集
伴熱功能防止高粘度介質(zhì)凝固堵塞(如潤(rùn)滑油系統(tǒng))
2.傳感器陣列
采用光纖傳導(dǎo)避免電磁干擾,配置自動(dòng)增益調(diào)節(jié)電路應(yīng)對(duì)信號(hào)衰減
多波長(zhǎng)復(fù)合光源消除不同材質(zhì)引起的測(cè)量偏差(金屬/氧化物/有機(jī)物區(qū)分)
3.數(shù)據(jù)處理中心
FPGA高速數(shù)據(jù)采集卡實(shí)現(xiàn)每秒百萬(wàn)次計(jì)數(shù)能力
嵌入式Linux系統(tǒng)運(yùn)行定制化算法,支持邊緣計(jì)算預(yù)處理
4.輔助裝置
真空脫氣模塊去除溶解氣體產(chǎn)生的氣泡干擾
超聲分散器打破團(tuán)聚體獲取真實(shí)粒徑分布
二、清潔度顆粒分析系統(tǒng)軟件功能亮點(diǎn)
1.三維建模可視化:將點(diǎn)云數(shù)據(jù)重構(gòu)為立體模型,直觀展示空間分布特征
2.趨勢(shì)預(yù)測(cè)引擎:基于歷史數(shù)據(jù)的機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)警濾芯更換周期
3.審計(jì)追蹤日志:符合FDA 21 CFR Part 11規(guī)范的數(shù)據(jù)完整性管理
4.多語(yǔ)言API接口:無(wú)縫對(duì)接MES/SCADA系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)智能化管控
清潔度顆粒分析系統(tǒng)必須嚴(yán)格遵守的操作禁忌:
禁止帶壓拆卸*何高壓連接件(殘余壓力可能導(dǎo)致噴射傷害)
避免在強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境下使用(會(huì)影響電子元件正常工作)
嚴(yán)禁非授權(quán)人員修改校準(zhǔn)參數(shù)(可能導(dǎo)致批量誤判)
定期校驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)溯源性(建議每年送回原廠復(fù)驗(yàn))
